Stability and microbial toxicity of HfO2 and ZrO2 nanoparticles for photolithography
| Auteur(s): |
Jorge Gonzalez-Estrella
Jim A. Field Christopher K. Ober Reyes Sierra-Alvarez |
|---|---|
| Médium: | article de revue |
| Langue(s): | anglais |
| Publié dans: | Green Materials, septembre 2019, n. 3, v. 7 |
| Page(s): | 109-117 |
| DOI: | 10.1680/jgrma.18.00056 |
- Informations
sur cette fiche - Reference-ID
10520834 - Publié(e) le:
08.12.2020 - Modifié(e) le:
19.02.2021
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