Stability and microbial toxicity of HfO2 and ZrO2 nanoparticles for photolithography
| Autor(en): |
Jorge Gonzalez-Estrella
Jim A. Field Christopher K. Ober Reyes Sierra-Alvarez |
|---|---|
| Medium: | Fachartikel |
| Sprache(n): | Englisch |
| Veröffentlicht in: | Green Materials, September 2019, n. 3, v. 7 |
| Seite(n): | 109-117 |
| DOI: | 10.1680/jgrma.18.00056 |
- Über diese
Datenseite - Reference-ID
10520834 - Veröffentlicht am:
08.12.2020 - Geändert am:
19.02.2021
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