Lithography performance and environmental compatibility of PFOS-free photoacid generators
Auteur(s): |
Wenjie Sun
Youngjin Cho Marie Krysak Christine Y. Ouyang Reyes Sierra-Alvarez Christopher K. Ober |
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Médium: | article de revue |
Langue(s): | anglais |
Publié dans: | Green Materials, décembre 2017, n. 4, v. 5 |
Page(s): | 173-181 |
DOI: | 10.1680/jgrma.17.00020 |
- Informations
sur cette fiche - Reference-ID
10520871 - Publié(e) le:
08.12.2020 - Modifié(e) le:
19.02.2021