Characterization of sputtering deposited NiTi shape memory thin films using a temperature controllable atomic force microscope
| Auteur(s): |
Q. He
W. M. Huang M. H. Hong M. J. Wu Y. Q. Fu T. C. Chong F. Chellet H. J. Du |
|---|---|
| Médium: | article de revue |
| Langue(s): | anglais |
| Publié dans: | Smart Materials and Structures, octobre 2004, n. 5, v. 13 |
| Page(s): | 977-982 |
| DOI: | 10.1088/0964-1726/13/5/001 |
- Informations
sur cette fiche - Reference-ID
10223217 - Publié(e) le:
04.12.2018 - Modifié(e) le:
04.12.2018
Structurae coopère avec
