Characterization of sputtering deposited NiTi shape memory thin films using a temperature controllable atomic force microscope
| Autor(en): |
Q. He
W. M. Huang M. H. Hong M. J. Wu Y. Q. Fu T. C. Chong F. Chellet H. J. Du |
|---|---|
| Medium: | Fachartikel |
| Sprache(n): | Englisch |
| Veröffentlicht in: | Smart Materials and Structures, Oktober 2004, n. 5, v. 13 |
| Seite(n): | 977-982 |
| DOI: | 10.1088/0964-1726/13/5/001 |
- Über diese
Datenseite - Reference-ID
10223217 - Veröffentlicht am:
04.12.2018 - Geändert am:
04.12.2018
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