Untersuchungen zur Siloxan Filmbildung auf funktionalisierten Germanium Kristallen mittels Rasterkraftmikroskopie (AFM) und ATR-FTIR-Spektroskopie / Investigation of Siloxane Film Formation on Functionalized Germanium Crystals by Atomic Force Microscopy and FTIR-ATR Spectroscopy
| Auteur(s): |
J. Glowacky
S. Heißler M. Boese H. Leiste T. Koker W. Faubel A. Gerdes H. S. Müller |
|---|---|
| Médium: | article de revue |
| Langue(s): | anglais |
| Publié dans: | Restoration of Buildings and Monuments, décembre 2008, n. 6, v. 14 |
| Page(s): | 413-424 |
| DOI: | 10.1515/rbm-2008-6251 |
- Informations
sur cette fiche - Reference-ID
10531755 - Publié(e) le:
17.12.2020 - Modifié(e) le:
19.02.2021
Structurae coopère avec
