Untersuchungen zur Siloxan Filmbildung auf funktionalisierten Germanium Kristallen mittels Rasterkraftmikroskopie (AFM) und ATR-FTIR-Spektroskopie / Investigation of Siloxane Film Formation on Functionalized Germanium Crystals by Atomic Force Microscopy and FTIR-ATR Spectroscopy
| Autor(en): |
J. Glowacky
S. Heißler M. Boese H. Leiste T. Koker W. Faubel A. Gerdes H. S. Müller |
|---|---|
| Medium: | Fachartikel |
| Sprache(n): | Englisch |
| Veröffentlicht in: | Restoration of Buildings and Monuments, Dezember 2008, n. 6, v. 14 |
| Seite(n): | 413-424 |
| DOI: | 10.1515/rbm-2008-6251 |
- Über diese
Datenseite - Reference-ID
10531755 - Veröffentlicht am:
17.12.2020 - Geändert am:
19.02.2021
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