A numerical study on airflow and dynamic cross-contamination in the super cleanroom for photolithography process
Auteur(s): |
Kwang-Chul Noh
Myung-Do Oh Seung-Chul Lee |
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Médium: | article de revue |
Langue(s): | anglais |
Publié dans: | Building and Environment, novembre 2005, n. 11, v. 40 |
Page(s): | 1431-1440 |
DOI: | 10.1016/j.buildenv.2004.11.016 |
- Informations
sur cette fiche - Reference-ID
10392577 - Publié(e) le:
26.11.2019 - Modifié(e) le:
26.11.2019