Deep reactive ion etching: a promising technology for micro- and nanosatellites
| Auteur(s): |
A. A. Ayón
R. L. Bayt K. S. Breuer |
|---|---|
| Médium: | article de revue |
| Langue(s): | anglais |
| Publié dans: | Smart Materials and Structures, décembre 2001, n. 6, v. 10 |
| Page(s): | 1135-1144 |
| DOI: | 10.1088/0964-1726/10/6/302 |
- Informations
sur cette fiche - Reference-ID
10215663 - Publié(e) le:
04.12.2018 - Modifié(e) le:
04.12.2018
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