Deep reactive ion etching: a promising technology for micro- and nanosatellites
| Autor(en): |
A. A. Ayón
R. L. Bayt K. S. Breuer |
|---|---|
| Medium: | Fachartikel |
| Sprache(n): | Englisch |
| Veröffentlicht in: | Smart Materials and Structures, Dezember 2001, n. 6, v. 10 |
| Seite(n): | 1135-1144 |
| DOI: | 10.1088/0964-1726/10/6/302 |
- Über diese
Datenseite - Reference-ID
10215663 - Veröffentlicht am:
04.12.2018 - Geändert am:
04.12.2018
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