Contaminant particles removal by negative air ionic cleaner in industrial minienvironment for IC manufacturing processes
| Auteur(s): |
Angus Shiue
Shih-Cheng Hu |
|---|---|
| Médium: | article de revue |
| Langue(s): | anglais |
| Publié dans: | Building and Environment, août 2011, n. 8, v. 46 |
| Page(s): | 1537-1544 |
| DOI: | 10.1016/j.buildenv.2011.01.006 |
- Informations
sur cette fiche - Reference-ID
10390850 - Publié(e) le:
26.11.2019 - Modifié(e) le:
26.11.2019
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