Contaminant particles removal by negative air ionic cleaner in industrial minienvironment for IC manufacturing processes
| Autor(en): |
Angus Shiue
Shih-Cheng Hu |
|---|---|
| Medium: | Fachartikel |
| Sprache(n): | Englisch |
| Veröffentlicht in: | Building and Environment, August 2011, n. 8, v. 46 |
| Seite(n): | 1537-1544 |
| DOI: | 10.1016/j.buildenv.2011.01.006 |
- Über diese
Datenseite - Reference-ID
10390850 - Veröffentlicht am:
26.11.2019 - Geändert am:
26.11.2019
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