Atomic layer deposition of TiO2 and Al2O3 thin films and nanolaminates
| Auteur(s): |
D. R. G. Mitchell
G. Triani D. J. Attard K. S. Finnie P. J. Evans C. J. Barbé J. R. Bartlett |
|---|---|
| Médium: | article de revue |
| Langue(s): | anglais |
| Publié dans: | Smart Materials and Structures, février 2006, n. 1, v. 15 |
| Page(s): | S57-S64 |
| DOI: | 10.1088/0964-1726/15/1/010 |
- Informations
sur cette fiche - Reference-ID
10223006 - Publié(e) le:
04.12.2018 - Modifié(e) le:
04.12.2018
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