Atomic layer deposition of TiO2 and Al2O3 thin films and nanolaminates
| Autor(en): |
D. R. G. Mitchell
G. Triani D. J. Attard K. S. Finnie P. J. Evans C. J. Barbé J. R. Bartlett |
|---|---|
| Medium: | Fachartikel |
| Sprache(n): | Englisch |
| Veröffentlicht in: | Smart Materials and Structures, Februar 2006, n. 1, v. 15 |
| Seite(n): | S57-S64 |
| DOI: | 10.1088/0964-1726/15/1/010 |
- Über diese
Datenseite - Reference-ID
10223006 - Veröffentlicht am:
04.12.2018 - Geändert am:
04.12.2018
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