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J. B. Helonde

La bibliographie suivante contient toutes les publications répertoriées dans la base de données qui sont reliées à ce nom en tant qu'auteur, éditeur ou collaborateur.

  1. Pete, D. J. / Mhaisalkar, S. G. / Helonde, J. B. / Vairagar, A. V. (2012): Electromigration-induced void evolution in upper and lower layer dual-inlaid Copper interconnect structures. Dans: Advances in Materials Research, v. 1, n. 2 (juin 2012).

    https://doi.org/10.12989/amr.2012.1.2.109

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