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Treatment of Polishing Wastewater from Semiconductor Manufacturer by Dispersed Air Flotation

Auteur(s): (Graduate Student, Dept. of Chemical Engineering, National Taiwan Univ. of Science and Technology, 43 Keelung Rd., Sec. 4, Taipei 106, Taiwan)
(Graduate Student, Dept. of Chemical Engineering, National Taiwan Univ. of Science and Technology, 43 Keelung Rd., Sec. 4, Taipei 106, Taiwan)
Médium: article de revue
Langue(s): anglais
Publié dans: Journal of Environmental Engineering (ASCE), , n. 1, v. 132
Page(s): 51-57
DOI: 10.1061/(asce)0733-9372(2006)132:1(51)
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  • Informations
    sur cette fiche
  • Reference-ID
    10584170
  • Publié(e) le:
    08.03.2021
  • Modifié(e) le:
    08.03.2021
 
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