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Treatment of Polishing Wastewater from Semiconductor Manufacturer by Dispersed Air Flotation

Autor(en): (Graduate Student, Dept. of Chemical Engineering, National Taiwan Univ. of Science and Technology, 43 Keelung Rd., Sec. 4, Taipei 106, Taiwan)
(Graduate Student, Dept. of Chemical Engineering, National Taiwan Univ. of Science and Technology, 43 Keelung Rd., Sec. 4, Taipei 106, Taiwan)
Medium: Fachartikel
Sprache(n): Englisch
Veröffentlicht in: Journal of Environmental Engineering (ASCE), , n. 1, v. 132
Seite(n): 51-57
DOI: 10.1061/(asce)0733-9372(2006)132:1(51)
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  • Über diese
    Datenseite
  • Reference-ID
    10584170
  • Veröffentlicht am:
    08.03.2021
  • Geändert am:
    08.03.2021
 
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