Electrochemical and corrosion behaviors of sputtered TiNi shape memory films
| Auteur(s): |
K. Li
X. Huang Z. S. Zhao Y. Li Y. Q. Fu |
|---|---|
| Médium: | article de revue |
| Langue(s): | anglais |
| Publié dans: | Smart Materials and Structures, mars 2016, n. 3, v. 25 |
| Page(s): | 035039 |
| DOI: | 10.1088/0964-1726/25/3/035039 |
- Informations
sur cette fiche - Reference-ID
10226190 - Publié(e) le:
04.12.2018 - Modifié(e) le:
04.12.2018
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