Electrochemical and corrosion behaviors of sputtered TiNi shape memory films
| Autor(en): |
K. Li
X. Huang Z. S. Zhao Y. Li Y. Q. Fu |
|---|---|
| Medium: | Fachartikel |
| Sprache(n): | Englisch |
| Veröffentlicht in: | Smart Materials and Structures, März 2016, n. 3, v. 25 |
| Seite(n): | 035039 |
| DOI: | 10.1088/0964-1726/25/3/035039 |
- Über diese
Datenseite - Reference-ID
10226190 - Veröffentlicht am:
04.12.2018 - Geändert am:
04.12.2018
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