The effect of concentration in the patterning of silica particles by the soft lithographic technique
| Auteur(s): |
Akanksha Singh
Chantal Khan Malek Sulabha K. Kulkarni |
|---|---|
| Médium: | article de revue |
| Langue(s): | anglais |
| Publié dans: | Smart Materials and Structures, décembre 2008, n. 6, v. 17 |
| Page(s): | 065031 |
| DOI: | 10.1088/0964-1726/17/6/065031 |
- Informations
sur cette fiche - Reference-ID
10223823 - Publié(e) le:
04.12.2018 - Modifié(e) le:
04.12.2018
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