The effect of concentration in the patterning of silica particles by the soft lithographic technique
| Autor(en): |
Akanksha Singh
Chantal Khan Malek Sulabha K. Kulkarni |
|---|---|
| Medium: | Fachartikel |
| Sprache(n): | Englisch |
| Veröffentlicht in: | Smart Materials and Structures, Dezember 2008, n. 6, v. 17 |
| Seite(n): | 065031 |
| DOI: | 10.1088/0964-1726/17/6/065031 |
- Über diese
Datenseite - Reference-ID
10223823 - Veröffentlicht am:
04.12.2018 - Geändert am:
04.12.2018
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