Computer simulations for mask structure heating in X-ray lithography
| Auteur(s): |
Dz-Chi Li
Jeng-Tzong Chen Shiang-Woei Chyuan Cherng-Ynan Sun |
|---|---|
| Médium: | article de revue |
| Langue(s): | anglais |
| Publié dans: | Computers & Structures, février 1996, n. 4, v. 58 |
| Page(s): | 825-834 |
| DOI: | 10.1016/0045-7949(95)00063-m |
- Informations
sur cette fiche - Reference-ID
10279263 - Publié(e) le:
05.01.2019 - Modifié(e) le:
05.01.2019
Structurae coopère avec
