Computer simulations for mask structure heating in X-ray lithography
| Autor(en): |
Dz-Chi Li
Jeng-Tzong Chen Shiang-Woei Chyuan Cherng-Ynan Sun |
|---|---|
| Medium: | Fachartikel |
| Sprache(n): | Englisch |
| Veröffentlicht in: | Computers & Structures, Februar 1996, n. 4, v. 58 |
| Seite(n): | 825-834 |
| DOI: | 10.1016/0045-7949(95)00063-m |
- Über diese
Datenseite - Reference-ID
10279263 - Veröffentlicht am:
05.01.2019 - Geändert am:
05.01.2019
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