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Physical Vapour Deposition: PVD-Verfahrenstechnik und ihre Anwendung beim Herstellen verschleisshemmender Schichten

Auteur(s):
Médium: article de revue
Langue(s): allemand
Publié dans: Schweizer Ingenieur und Architekt, , n. 48, v. 106
DOI: 10.5169/seals-85853
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  • Informations
    sur cette fiche
  • Reference-ID
    10503304
  • Publié(e) le:
    25.11.2020
  • Modifié(e) le:
    25.11.2020
 
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