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Application of the Nitritation and Anammox Process into Inorganic Nitrogenous Wastewater from Semiconductor Factory

Auteur(s): (Chief Researcher, Kurita Water Industries Ltd., 1-1 Gochoyama, Kawada, Nogi-machi, Shimotsuga-gun, Tochigi 329-0105, Japan (corresponding author).)
(Chief Researcher, Kurita Water Industries Ltd., 1-1 Gochoyama, Kawada, Nogi-machi, Shimotsuga-gun, Tochigi 329-0105, Japan (corresponding author).)
(Chief Researcher, Kurita Water Industries Ltd., 1-1 Gochoyama, Kawada, Nogi-machi, Shimotsuga-gun, Tochigi 329-0105, Japan (corresponding author).)
(Chief Researcher, Kurita Water Industries Ltd., 1-1 Gochoyama, Kawada, Nogi-machi, Shimotsuga-gun, Tochigi 329-0105, Japan (corresponding author).)
(Chief Researcher, Kurita Water Industries Ltd., 1-1 Gochoyama, Kawada, Nogi-machi, Shimotsuga-gun, Tochigi 329-0105, Japan (corresponding author).)
Médium: article de revue
Langue(s): anglais
Publié dans: Journal of Environmental Engineering (ASCE), , n. 2, v. 137
Page(s): 146-154
DOI: 10.1061/(asce)ee.1943-7870.0000303
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  • Informations
    sur cette fiche
  • Reference-ID
    10585027
  • Publié(e) le:
    08.03.2021
  • Modifié(e) le:
    08.03.2021
 
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