Stress in low-temperature plasma enhanced chemical vapour deposited silicon nitride thin films
| Autor(en): |
M. Martyniuk
J. Antoszewski C. A. Musca J. M. Dell L. Faraone |
|---|---|
| Medium: | Fachartikel |
| Sprache(n): | Englisch |
| Veröffentlicht in: | Smart Materials and Structures, Februar 2006, n. 1, v. 15 |
| Seite(n): | S29-S38 |
| DOI: | 10.1088/0964-1726/15/1/006 |
- Über diese
Datenseite - Reference-ID
10223009 - Veröffentlicht am:
04.12.2018 - Geändert am:
04.12.2018
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