The use of titanium and titanium dioxide as masks for deep silicon etching
| Autor(en): |
Olly Powell
Denis Sweatman H. Barry Harrison |
|---|---|
| Medium: | Fachartikel |
| Sprache(n): | Englisch |
| Veröffentlicht in: | Smart Materials and Structures, Februar 2006, n. 1, v. 15 |
| Seite(n): | S81-S86 |
| DOI: | 10.1088/0964-1726/15/1/013 |
- Über diese
Datenseite - Reference-ID
10223001 - Veröffentlicht am:
04.12.2018 - Geändert am:
04.12.2018
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