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Structure and properties of CIGS films based on one-stage RF-sputtering process at low substrate temperature

Autor(en):







Medium: Fachartikel
Sprache(n): Englisch
Veröffentlicht in: Journal of Modern Transportation, , n. 1, v. 22
Seite(n): 37-44
DOI: 10.1007/s40534-014-0035-1
Copyright: © The Author(s) 2014
Lizenz:

Dieses Werk wurde unter der Creative-Commons-Lizenz Namensnennung 2.0 Generic (CC-BY 2.0) veröffentlicht und darf unter den Lizenzbedinungen vervielfältigt, verbreitet, öffentlich zugänglich gemacht, sowie abgewandelt und bearbeitet werden. Dabei muss der Urheber bzw. Rechteinhaber genannt und die Lizenzbedingungen eingehalten werden.

  • Über diese
    Datenseite
  • Reference-ID
    10256075
  • Veröffentlicht am:
    18.12.2018
  • Geändert am:
    02.06.2021
 
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