Deep reactive ion etching of auxetic structures: present capabilities and challenges
| Autor(en): |
Alban Muslija
Andrés Díaz Lantada |
|---|---|
| Medium: | Fachartikel |
| Sprache(n): | Englisch |
| Veröffentlicht in: | Smart Materials and Structures, August 2014, n. 8, v. 23 |
| Seite(n): | 087001 |
| DOI: | 10.1088/0964-1726/23/8/087001 |
- Über diese
Datenseite - Reference-ID
10225507 - Veröffentlicht am:
04.12.2018 - Geändert am:
04.12.2018
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